Szerkesztő:Valkais/Lágy litográfia

1. ábra – Mikrobélyegző „betintázása”. A felületi mintával ellátott PDMS bélyegzőre etanol és ODT (oktadekántiol) keverékéből álló oldatot juttatunk. Utóbbi a "tinta", amit végül az arany felületre akarunk felvinni.

2. ábra – Az oldatban lebegő ODT leülepszik a PDMS bélyegző felszínére és vékony réteg alakul ki belőle. Mikor az etanol elpárolog és a bélyegzőn ottmarad az ODT "tinta" rétege.

3. ábra – Az ODT-vel "betintázott" PDMS bélyegzőt az arany hordozóra helyezzük és az ODT az arany felületéhez köt. A bélyegző eltávolításakor az arannyal érintkező ODT az arany felületén marad (erősebben kötődik hozzá, mint a PDMS-hez). Így a bélyegző mintája az aranyra kerül.

A lágy litográfia (angolul: soft lithography) olyan technikák családja, amelyekben elasztomer (lágy, rugalmas) anyagokat, leginkább PDMS-t alkalmaznak. Egyrészt belőlük egy előre elkészített öntőformáról (angolul: mold) készítenek másolatot (replika). Ezek a másolatok lehetnek mikrocsatornák vagy más csiplaboratóriumi eszközök. Másrészt, az ábrákon példaként bemutatott mikrobélyegzőkkel történő pecsételés is lágy litográfiás technikának számít.

A lágy litográfiát általában a mikrométertől nanométerig terjedő mérettartományba eső részletekkel bíró struktúrák létrehozására használják. Egy ideje már kaphatók a kereskedelemben lágy litográfiai eszközök.

Típusok

• PDMS mikrobélyegző
• Mikrokontaktus nyomtatás
• Többrétegű lágy litográfia
• Nanogömb litográfia
• Maratással létrehozott nanoméretű felületi mintázatok

Előnyök

Egy lágy litográfiával (PDMS mikorbélyegzővel) létrehozott sztreptavidin mintázat SEEC mikroszkópos képe.

A lágy litográfiának van néhány egyedi előnye a litográfia más formáihoz (például a fotolitográfiához és az elektron-nyaláb litográfiához ) képest, a következők:

• Alacsonyabb tömeggyártási költség, mint a hagyományos fotolitográfia esetén
• Kiválóan alkalmas biotechnológiai alkalmazásokhoz
• Kiválóan alkalmas műanyag elektronikai alkalmazásokhoz
• Kiválóan alkalmas nagy vagy nem sík felületeket érintő alkalmazásokhoz
• Többféle mintázatátviteli módszer is lehetséges, mint a hagyományos litográfiai technikáknál (többféle „tinta”)
• Nincs szükség fotoreaktív (például fotopolimer) felületre a nanostruktúra létrehozásához
• A létrehozott struktúrák estében jobb térbeli feloldás érhető el, mint a fotolitográfiában. Ott ~30 nm, a felbontás, míg lágy litográfiában (az öntőformához használt maszk felbontásától függően) ez elérheti akár a 6 nm-t.