Ugrás a tartalomhoz

Plazmatisztító

A Wikipédiából, a szabad enciklopédiából
Kereskedelmi forgalomban kapható plazmatisztító. A felső egység bal oldalán a gáz bemenetek (2db) vannak a függőleges áramlásmérőkkel, felettük a beáramlást szabályozó tűszelepekkel. A világos csövön jut belőle a gáz a plazmatisztító bemenetére. Jobb oldalon a digitális kijelzésű nyomásmérő a kamra, jelen esetben, a benne levő lila színű levegőplazma nyomását mutatja. Az alsó egység maga a plazmatisztító, előlapján a kezelőgombokkal és szelepekkel.
Fényes, kékesfehér oxigénplazmával távolítják el a szénszennyeződéseket MEMS-eszköz felületéről (nyomás:100 mTorr teljesítmény:50 W)

A plazmatisztító használata során a kamrájába helyezett minta felületének szennyeződéseit távolítjuk el gáznemű anyagokból létrehozott plazmával. Ehhez sokféle gázt használnak, példáulargont, oxigént vagy gázkeverékeket, mint például levegőt vagy hidrogén-nitrogén keveréket. A plazmát nagyfrekvenciás elektromágneses tér (jellemzően kHz-től MHz-ig) segítségével állítják elő, ami ionizálja az alacsony (jellemzően 100 Pa) nyomású gázt, bár manapság már légköri nyomású plazmával is dolgoznak.[1] Valószínűleg történelmi okokból, a nyomást sok esetben még mindig Torr-ban (higanymilliméterben) adják meg és mérik, vélhetően a korábban nyomásmérésre elterjedt higanyos manométerek miatt.

Módszerek

[szerkesztés]

A plazmatisztító zárt kamrájában a gázatomokat váltófeszültségű elektromos térrel gerjesztett állapotba hozzák és ionizálják is. Ahogy az atomok és molekulák „legerjesztődnek” az alapállapotukba, fotont bocsájtanak ki, ezért világít a plazma. A gerjesztett és alapállapot közötti energiakülönbség a keletkező foton energiája, ez határozza meg a fény színét (, ahol a Planck-állandó, a fénysebesség, pedig a fény hullámhossza, ez határozza meg a benne levő színeket, a plazma spektrumát). A különböző gázok plazmája eltérő színű, mert más-más energaszintjeik vannak, például az oxigénplazma világoskék, a levegőplazma lilás színnel világít. A plazma aktivált alkotórészei atomok, molekulák, ionok, elektronok, szabad gyökök és fotonok a rövidhullámhosszú ultraibolya (vákuum UV vagy röviden VUV) tartományban. Ez a kémiailag nagyon reakcióképes keverék kölcsönhatásba lép a plazmába helyezett bármely felülettel. Az oxigénplazma hatékony, gazdaságos, környezetbarát módszer a nagy tisztaságú felületek létrehozásához szükséges tisztításhoz. A VUV foton nagy energiája nagyon hatékony a felületi szennyeződések legtöbb szerves kötésének (pl. , , , és ) felszakításában, ami segít elbontani a nagy molekulatömegű szennyeződéseket. A második tisztítási módot adják a plazmában keletkező oxigénfajták (, , ,, , és ionizált ózon (), a metastabil gerjesztett oxigén, illetve a szabad elektronok reakciója a szennyeződéssel.[2] Szerves szennyeződésekkel reagálva -t, -t, -t és kisebb molekulatömegű szénhidrogéneket képeznek. Ezeknek a vegyületeknek viszonylag magas gőznyomásuk van, és a folyamat során kiürülnek a kamrából. A plazmatisztító működése közben ugyanis, a kamra kimenetére kötött vákuumszivattyú folyamatosan működik, a tűszeleppel finoman szabályozható bemenetén pedig a plazmává alakuló gáz(keverék) jut be, szintén folyamatosan. Gyorsan kialakul a be- és kimeneti gázáramlás egyensúlya, a gázplazma nyomása, ami, végeredményben a bemeneti tűszeleppel állítható be. A kezelés után kapott felület rendkívül tiszta. Az 1. ábrán a relatív széntartalom látható a gerjesztett oxigénnel történő tisztítás előtt és után.[1]

1. ábra: Széntartalom a kezelt felület alatti, (angstömben mért) mélység függvényében. rombuszok: mintakezelés előttnégyzetek: 1 másodperces palzmakezelés utánA "base level" mutatja a tisztított anyag eredeti széntartalmát (kb. 17%) A mérési pontokra normális eloszlás függvényt illesztettek (folytonos vonal)

Ha a behelyezett minta könnyen oxidálódó anyagokból, például ezüstből vagy rézből áll, a tisztításhoz inkább nemesgázokat, például argont vagy héliumot használnak. Szintén nemesgázok plazmáját használják vékony bevonatok készítéséhez a katódporlasztókban. Az illeszkedési szög mérésével ellenőrizhető, hogy a szervesanyagok eltávolítása teljes volt-e vagy sem. Szerves szennyeződés jelenléte esetén, a víz illeszkedési szöge nagy. Amikor sikerült eltávolítani a szennyeződést, az illeszkedési szöget a tiszta anyaghoz tartozó értékre csökkenti. Ezenkívül az XPS-t és az AFM-et gyakran használják felülettisztaság és sterilitás ellenőrzésére.[3]

Ha a kezelendő felületet strukturált vezetőréteggel (pl.: fém, esetleg ITO[4]) vonják be, rájuk nézve a plazmával való közvetlen érintkezés roncsoló hatású lehet (a plazma magas hőmérsékletű mikro-ívkisülésekké húzódhat össze). Ilyen esetekben előnyösebb a plazmában metastabil állapotba gerjesztett, semleges atomokkal történő tisztítás alkalmazható.[5] A Cr- és ITO- réteggel bevont üvegminták felületén végzett kezelések hatását a róluk készített felvételek segítségével a 2. ábrán láthatjuk.

2. ábra: 5 μl (mikroliter) térfogatú vízcsepp illeszkedési szöge különböző anyagokkal (króm, illetve ITO) bevont üvegen a kezelés előtt (fent) és után (lent).

Alkalmazások

[szerkesztés]
Fémfelület tisztítása atmoszférikus nyomású plazmával

Tisztítás és sterilizálás

[szerkesztés]

A plazmatisztítás kémiai reakcióval vagy szénhidrogének fizikai ablációjával távolítja el a szerves szennyeződéseket a kezelt felületekről.[3] A plazmatisztítás használható az oldatos kémiai eljárások helyett (mint például a piranha maratás, illetve a krómsav), amelyek veszélyes vegyületeket tartalmaznak.[6]

A sejtek életképességét, működését, proliferációját (növekedését, szaporodását) és differenciálódását a mikrokörnyezetükhöz való tapadásuk határozza meg.[7] A gázplazmát gyakran használják vegyszermentes eszközként biológiai szempontból fontos funkciós csoportok (karbonil, karboxil, hidroxil, amin stb.) hozzáadására a kezelt anyagfelület molekuláihoz.[8] Ennek eredményeként a plazmatisztítós kezelés javítja az anyagok biokompatibilitását vagy bioaktivitását, ezért az élettudományokban használják sejttenyésztéshez,[9] szövetnövesztéshez,[10] implantátumokhoz és még sok máshoz. Ezen kívül el is távolítja a kezelt felületről a szennyező fehérjéket és mikrobákat

Anyagtudomány

[szerkesztés]

A felület nedvesítőképességének szabályozása az anyagtudomány alapvető eszköze a felületi anyag tulajdonságainak javítására magának az a hordozóanyag tulajdonságainak befolyásolása nélkül. Plazmatisztítós kezeléssel poláris funkciós csoportokat lehet rákötni a felületre ami hidrofilebbé teszi (nedvesítőbbé) javítja a tapadást vizes bevonatokkal, ragasztókkal, tintákkal és epoxikkal.

A mikro- vagy nanoméretű folyadékáramlás egyedi jellemzőit a mikrofluidikai eszközök hasznosítják a legkülönfélébb kutatási alkalmazásokban. Ezen eszközök prototípusának legszélesebb körben használt anyaga a polidimetilsziloxán (PDMS), többek közt mert gyorsan elkészül belőle a mikrofluidikai eszköz és szabályozható anyagtulajdonságai miatt. A plazmatisztítást a PDMS mikrofluidikus chipek üveglemezekkel vagy PDMS-lapokkal való tartós ragasztására használják, hogy vízzáró mikrocsatornákat hozzanak létre. Az oxigénplazmás kezelés hatására ugyanis a PDMS felületén olyan kémiai csoportok jönnek létre, amik erős, kovalens kötéssel kapcsolódnak az üveg molekuláihoz vagy az így kezelt PDMS-en szintén létrejött kémiai csoportokhoz.[11]

A plazmát a napelemek teljesítményének, hatásfokának javítására is használják[12][13]

Jegyzetek

[szerkesztés]
  1. a b Evgeny V. Shun’ko (2007). „Cleaning Properties of atomic oxygen excited to metastable state 2s22p4(1S0)”. J. Appl. Phys. 102 (8), 083304–1–14. o. DOI:10.1063/1.2794857. 
  2. A. Pizzi. Handbook of Adhesive Technology, Revised and Expanded, 2, illustrated, revised, CRC Press, 1036. o. (2003. november 4.). ISBN 978-0824709860 
  3. a b Banerjee (2010. november 1.). „Molecular-level removal of proteinaceous contamination from model surfaces and biomedical device materials by air plasma treatment”. Journal of Hospital Infection 76 (3), 234–242. o. DOI:10.1016/j.jhin.2010.07.001. ISSN 0195-6701. PMID 20850199. 
  4. Indium Tin Oxide. (Hozzáférés: 2003. november 10.)
  5. Evgeny V. Shun’ko (2012). „Treatment Surfaces with Atomic Oxygen Excited in Dielectric Barrier Discharge Plasma of O2 Admixed to N2”. AIP Advances 2 (2), 022157–24. o. DOI:10.1063/1.4732120. 
  6. Raiber (2005. december 5.). „Removal of self-assembled monolayers of alkanethiolates on gold by plasma cleaning”. Surface Science 595 (1), 56–63. o. DOI:10.1016/j.susc.2005.07.038. ISSN 0039-6028. 
  7. Khalili (2015. augusztus 5.). „A Review of Cell Adhesion Studies for Biomedical and Biological Applications”. International Journal of Molecular Sciences 16 (8), 18149–18184. o. DOI:10.3390/ijms160818149. ISSN 1422-0067. PMID 26251901. PMC 4581240. 
  8. Lerman (2018. október 1.). „The Evolution of Polystyrene as a Cell Culture Material”. Tissue Engineering. Part B, Reviews 24 (5), 359–372. o. DOI:10.1089/ten.TEB.2018.0056. ISSN 1937-3376. PMID 29631491. PMC 6199621. 
  9. Pratt (1989. november 4.). „Enhanced adherence of human adult endothelial cells to plasma discharge modified polyethylene terephthalate” (angol nyelven). Journal of Biomedical Materials Research 23 (10), 1131–1147. o. DOI:10.1002/jbm.820231004. ISSN 1097-4636. PMID 2530233. 
  10. Beardslee (2016. augusztus 1.). „A sacrificial process for fabrication of biodegradable polymer membranes with submicron thickness: A SACRIFICIAL PROCESS FOR FABRICATION OF BIODEGRADABLE POLYMER MEMBRANES” (angol nyelven). Journal of Biomedical Materials Research Part B: Applied Biomaterials 104 (6), 1192–1201. o. DOI:10.1002/jbm.b.33464. PMID 26079689. 
  11. Chen (2018. június 3.). „Characterization of fracture energy and toughness of air plasma PDMS–PDMS bonding by T-peel testing”. Journal of Adhesion Science and Technology 32 (11), 1239–1252. o. DOI:10.1080/01694243.2017.1406877. ISSN 0169-4243. 
  12. Sun (2013. február 1.). „Performance enhancement in inverted polymer photovoltaics with solution-processed MoOX and air-plasma treatment for anode modification”. Solar Energy Materials and Solar Cells 109, 178–184. o. DOI:10.1016/j.solmat.2012.10.026. ISSN 0927-0248. 
  13. Kong (2018. augusztus 15.). „Defect enhances photocatalytic activity of ultrathin TiO2 (B) nanosheets for hydrogen production by plasma engraving method”. Applied Catalysis B: Environmental 230, 11–17. o. DOI:10.1016/j.apcatb.2018.02.019. ISSN 0926-3373. 

Fordítás

[szerkesztés]

Ez a szócikk részben vagy egészben a Plasma cleaning című angol Wikipédia-szócikk ezen változatának fordításán alapul. Az eredeti cikk szerkesztőit annak laptörténete sorolja fel. Ez a jelzés csupán a megfogalmazás eredetét és a szerzői jogokat jelzi, nem szolgál a cikkben szereplő információk forrásmegjelöléseként.