Either an ohmic contact or a Schottky barrier is formed when a metal and an n-type semiconductor are brought into contact. In the ideal case, the magnitude of the band bending and contact resistance depend on the doping of the semiconductor, its dielectric constant and the Schottky barrier where is the work function of the metal and is the electron affinity of the n-type semiconductor.
Nincs megadva géppel olvasható forrás. Feltételezhetően saját munka (a szerzői jogi adatok alapján).
Szerző
Nincs megadva géppel olvasható szerző. Feltételezhetően Chaiken (a szerzői jogi adatok alapján).
Licenc
Én, e mű szerzője a művemet az alábbi licencek alatt teszem közzé:
Ez a fájl szabadon másolható, terjeszthető és/vagy módosítható a GNU Szabad Dokumentációs Licenc feltételei alapján, az 1.2 vagy későbbi, a Free Software Foundation által publikált Nem Változtatható szakaszok, Címlapszövegek és Hátlapszövegek nélküli változat szerint. E licenc egy példánya a GNU Szabad Dokumentációs Licenc című fejezetben olvasható.http://www.gnu.org/copyleft/fdl.htmlGFDLGNU Free Documentation Licensetruetrue
megoszthatod – szabadon másolhatod, terjesztheted, bemutathatod és előadhatod a művet
feldolgozhatod – származékos műveket hozhatsz létre
Az alábbi feltételekkel:
Nevezd meg! – A szerzőt megfelelően fel kell tüntetned, hivatkozást kell létrehoznod a licencre és jelezned kell, ha a művön változtatást hajtottál végre. Ezt bármilyen észszerű módon megteheted, kivéve oly módon, ami azt sugallná hogy a jogosult támogat téged vagy a felhasználásod körülményeit.
Így add tovább! – Ha megváltoztatod, átalakítod, feldolgozod ezt a művet, a közreműködésedet csak az eredetivel megegyező vagy hasonló licenc alatt terjesztheted.
Ez a licenc a GFDL licenccsere során került a fájlra.http://creativecommons.org/licenses/by-sa/3.0/CC BY-SA 3.0Creative Commons Attribution-Share Alike 3.0truetrue
megoszthatod – szabadon másolhatod, terjesztheted, bemutathatod és előadhatod a művet
feldolgozhatod – származékos műveket hozhatsz létre
Az alábbi feltételekkel:
Nevezd meg! – A szerzőt megfelelően fel kell tüntetned, hivatkozást kell létrehoznod a licencre és jelezned kell, ha a művön változtatást hajtottál végre. Ezt bármilyen észszerű módon megteheted, kivéve oly módon, ami azt sugallná hogy a jogosult támogat téged vagy a felhasználásod körülményeit.
Így add tovább! – Ha megváltoztatod, átalakítod, feldolgozod ezt a művet, a közreműködésedet csak az eredetivel megegyező vagy hasonló licenc alatt terjesztheted.
An ohmic contact or Schottky barrier is formed when a metal and an n-type semiconductor are brought into contact. In the ideal case, the magnitude of the band bending <math>V_{bi}</math> and conta
== Summary == An ohmic contact or Schottky barrier is formed when a metal and semiconductor are brought into contact. In the ideal case, the magnitude of the band bending <math>V_{bi}</math> and contact resist